Где тонко, там и рвётся На этих снимках — тончайшие пленки, созданные в лаборатории московского Курчатовского института. Так выглядят тонкие слои нитридов на сапфире и кремнии, а точнее — эпитаксиальные плёнки соединений азота с металлами (нитридные плёнки AlN, GaN), выращенные методом MOCVD.  Это "слоёный пирог" из плёнок, толщиной от 300 нанометров до нескольких микрометров. Из них делают, например, транзисторы с высокой подвижностью электронов. Некоторые из них позволят транзисторам выдерживать большие токи и напряжения (конечно, если их удается сделать без дефектов).  Фокус, который требуется от тех, кто растит эти структуры, — заставить тонкие плёнки складываться друг на друга ровными слоями. Проблема в том, что плёнки разного состава (типа) имеют отличающуюся от подложек-основ кристаллическую решётку, а размеры элементов, формирующих решётку разных слоев, могут отличаться. Это как пытаться натянуть один кубик лего на другой, только другой на треть больше (а края кубиков при этом должны совпадать).  Так…